120167: ビンの生成と解析には投影座標系が必要です。<値> 投影法には、解析範囲に基づくカスタム投影パラメーターが適用されています。

説明

正方形または六角形のビンを作成するには、投影座標系が必要です。投影座標系が指定されていなかったため、解析は最良の推定を使用して実行されます。推定は、入力データの範囲と解析タイプ (ビニング) に基づいて行われます。

解決策

これは情報メッセージです。別の投影座標系を指定するには、環境設定で出力座標系を設定します。